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前沿所出版WILEY英文专著

来源:综合办 发布时间:2023-05-29 访问次数:290

 近期,浙江大学微纳电子学院前沿所的徐杨教授、俞滨教授和Srikrishna Chanakya Bodepudi特聘研究员以“Graphene for Post-Moore Silicon Optoelectronics为题,在WILEY出版了一本英文专著。基于半导体硅的制造技术已经涵盖了整个集成电路和电子工业的各个方面,并且将继续在人工智能和神经形态计算等新兴领域占据主导地位。其中,电子器件的小型化是推动摩尔定律发展的主要路径。然而这种追求高效率,高性能,小器件面积和低成本等方面的进展已经难以为继。器件的进一步缩小会导致出现复杂的掺杂情况和过大的泄漏电流。尤其当器件尺寸缩小到3nm以下时,此问题将变得更为严重。块状半导体会失去其结构质量,并表现出电荷传输和光电子性能的退化。在这种情况下,制备超越摩尔定律性能极限的器件需要基于新材料、电路和器件架构的新技术。具有原子层厚度和优异电荷传输特性的石墨烯和其它二维(2D)以及新型材料的出现,使得 “拓展摩尔”和“超越摩尔”成为可能。该书中系统讨论了在后摩尔时代关于硅范德华异质集成光电器件的基础理论、应用机会与未来挑战。















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